作为世界上最好的代工厂,新的台积电技术完全匆忙。EUVEUV 7 nm光刻工艺首次完成,5 nm工艺将于2019年4月开始原型制作。

但是,如您所知,半导体工艺是集成Taisei的高精度技术。台积电并未完全完成新工艺,但依赖于整个产业链中的设备和技术供应。例如,家庭光刻机通常由荷兰的ASML制造。

台积电的5纳米生产线包括深圳中威半导体的5纳米等离子雕刻机。它是独立开发的,最近通过了台积电验证。

Microsemiconductor和TSMC正在合作创建28nm工艺,10nm和7nm工艺仍在继续,现在我们已经成功开发了5nm的尖端产品。

据报道,等离子雕刻机是生产用于芯片微凹版印刷的芯片的重要装置。每根直线和深孔的加工精度是千分之几到数万根直径,其中一种是非常高精度的控制要求。

例如,16纳米工艺微型器件具有60多个微结构,需要1,000多个工艺步骤才能克服成千上万的技术细节。

微电子半导体首席执行官尹志伟表示:米粒刻字的微凹版印刷技术一般限于200字,芯片上等离子雕刻机的加工工艺烧掉数十亿粒米粒。词的层次。

长期以来,雕刻机的核心技术一直由国外制造商主导,微型半导体开始使用65 nm,45 nm,32 nm,28 nm和16 nm的等离子电介质雕刻机。最后,一台10纳米7纳米雕刻机也在客户的生产线上运行,5毫米雕刻机将很快被台积电采用。

然而,重要的是要记住,微型半导体可以获得不同于5nm芯片制造的5nm冲压机,因为冲压只是该过程中的许多步骤之一。

总的来说,中国的半导体制造技术非常不同,特别是在光刻设备方面。上海最好的微电子技术仅占据90纳米的位置。

当然,另一方面,中国的半导体技术也在各个层面迎头赶上,不断缩小差距,例如14纳米工艺仍然像14纳米领域的硅雕刻机一样发展。你。/华北华创金属,北方华创薄膜沉积设备,华创北部综合退火设备,上海圣美清洗设备已成功开发和验证。